1.1机械抛光
通过切割机械抛光,抛光后表面塑性变形凸光滑表面抛光方法去除,一般用油石、羊毛轮、砂纸、以手工操作为主,特殊部位如转盘表面,可以使用辅助工具,如表面质量要求高的可采用超精密抛光。超精密抛光是一种特殊的磨削工具。在含有磨料的抛光液中,将其压在工件的加工表面上进行高速旋转。使用这种技术,ra0.008μm的表面粗糙度可以达到,这是较好的各种抛光方法。这种方法常用于光学透镜模具。
1.2化学抛光
化学抛光是使材料溶于化学介质表面的凹部多于凹部,从而获得光滑表面。该方法的主要优点是不需要复杂的设备,能对复杂工件进行抛光,同时能同时抛光大量工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的制备。化学抛光获得的表面粗糙度通常为10μm。
1.3电解抛光
电解抛光的基本原理与化学抛光相同,即表面选择性溶解材料上的小凸部光滑。与化学抛光相比,阴极反应的效果可以消除,效果更好。电化学抛光过程分为两个步骤:
(1)宏观整平的溶解产物扩散到电解液中,材料表面粗糙,Ra为1μm。
(2)微光整平阳极极化,表面亮度增加,Ra<1米。